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Hydrogen-induced 3×1 phase of the Si-rich 3C-SiC(001) surface

机译:氢富硅3C-SiC(001)表面的3×1相

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摘要

A single-domain 3×1 phase induced by hydrogen adsorption on a Si-rich 3C-SiC(001)3×2 surface is investigated by photoemission using synchrotron radiation. Three surface components of the Si 2p core level are identified for the 3×1-H phase, which resemble those of the 3×2 surface. A H-Si bonding state is observed by angle-resolved valence-band photoemission. These results are consistent with the recent assignments of the Si 2p surface components and the valence band spectra of the 3×2 surface, based on the 3×2 structure model with 2/3 ML Si addimers. A straightforward 3×1-H structure model is introduced featuring Si dimer-bond breaking and dangling-bond saturation.
机译:通过使用同步加速器辐射的光发射研究了氢吸附在富硅3C-SiC(001)3×2表面上的单畴3×1相。对于3×1-H相,确定了Si 2p核心能级的三个表面成分,它们与3×2表面的成分相似。通过角度分辨的价带光发射观察到H-Si键合状态。这些结果与基于2/3 ML Si加法器的3×2结构模型,最近对Si 2p表面成分和3×2表面的价带谱的分配相一致。引入了一种简单的3×1-H结构模型,该模型具有Si二聚键断裂和悬键饱和。

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